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       對已曝光的感光材料進(jìn)行濕化學(xué)處理以產(chǎn)生可見圖像�；蛘邔σ哑毓獾墓饪棠z涂覆層，進(jìn)行濕化學(xué)處理,有選擇性地去除光刻膠，以產(chǎn)生可見圖像。

       以絕大部分正膠為例，顯影的原理是由于曝光后的光刻膠薄膜在弱堿性溶液中的溶解速率呈兩三個(gè)數(shù)量級的提升，使得其快速溶解，而未曝光區(qū)域溶解速率極低得以保留。

       根據(jù)顯影液接觸襯底的方式不同，分為浸泡顯影、旋噴顯影和浸潤顯影，可根據(jù)不同光刻膠厚度等因素來選擇。