通過細(xì)小的噴嘴將涂覆材料(如光致抗蝕劑)均勻地噴灑在整個基片表面上的一種涂覆操作方法。噴涂法一般采用高壓氣體霧化方式，或者超聲霧化方式，前者具有更好的穩(wěn)定性和工藝寬容度。霧化后的光刻膠液滴飛濺到襯底表面，在飛行過程中和黏附到襯底襯底表面后，光刻膠中的溶劑揮發(fā)，揮發(fā)后的液滴互相堆積后形成厚度較均勻的薄膜。
噴涂一般包含以下幾個工藝步驟：
1>襯底加熱：將襯底放置在工件臺上，加熱至工藝溫度。加熱可以使得光刻膠液滴在覆蓋在襯底表面后加速揮發(fā)溶劑，使得光刻膠的流動性降至最低，以覆蓋崎嶇表面。
2>光刻膠噴涂遍歷：噴嘴對襯底進(jìn)行光刻膠噴涂，同時機械手臂帶動噴嘴在X/Y平面內(nèi)進(jìn)行S形掃面，遍歷整個襯底表面，使得整個襯底均勻的覆蓋光刻膠。
3>襯底旋轉(zhuǎn)并再次遍歷：對于有起伏結(jié)構(gòu)的襯底，起伏結(jié)構(gòu)的朝向不同，受到噴涂的光刻膠量不同，甚至在深槽/坑結(jié)構(gòu)中，不同朝向會導(dǎo)致遮擋，使得光刻膠量有較大差別。通過將襯底旋轉(zhuǎn)90°并再次遍歷，四次后，使得各個朝向都能夠覆蓋足夠厚度的光刻膠層。
噴涂法適合表面具有起伏結(jié)構(gòu)的襯底、異形零件或非圓形的襯底，對襯底的尺寸和表面幾乎沒有限制，是進(jìn)行非硅材料光刻加工的優(yōu)秀涂敷方法。
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