簡(jiǎn)稱旋涂，把定量滴有液態(tài)涂覆材料(如光致抗蝕劑)的基片繞垂直于自身表面的軸旋轉(zhuǎn)的涂覆方法，使光致抗蝕劑均勻地覆蓋在整個(gè)硅片表面，同時(shí)有利于溶劑揮發(fā)。
旋涂過程一般包含以下幾個(gè)工藝步驟：
1>滴膠：將定量的光刻膠滴在襯底表面。手動(dòng)滴膠一般采用滴瓶盛放光刻膠，用滴管從瓶中吸出一定量的光刻膠，滴在襯底的正中心。自動(dòng)滴膠是由光刻膠泵將光刻膠泵至滴嘴，由安裝在自動(dòng)運(yùn)行的滴膠手臂上的滴嘴將光刻膠定量的滴在襯底中心。
2>低速轉(zhuǎn)：將光刻膠均勻的在襯底表面攤開，使得光刻膠覆蓋襯底的所有表面。
3>高速轉(zhuǎn)：甩掉襯底表面多余的光刻膠，光刻膠中的溶劑產(chǎn)生一定的揮發(fā)，在離心力、黏附力和表面張力的共同作用下，使得光刻膠在襯底表面均勻成膜。
光刻膠的厚度是由高速轉(zhuǎn)的速度、光刻膠黏度、襯底表面黏附力等因素共同決定的。轉(zhuǎn)速越高，光刻膠厚度越薄，但當(dāng)達(dá)到一定高轉(zhuǎn)速后，其厚度值趨于飽和。
旋涂法最適合表面光滑的圓形襯底和較薄的光刻膠厚度，對(duì)其它形狀的襯底和厚光刻膠具有一-定的限制。
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