產(chǎn)品特性

高深寬比：>5:1, 側(cè)壁垂直性好，光學(xué)透明，耐高溫，抗腐蝕較SU-8 2000具有更好的基底粘附力，減少在工藝過程中產(chǎn)生內(nèi)應(yīng)力積累，適用于MEMS工藝，光電器件，微流控，MEMS芯片制作以及作為芯片絕緣，保護層使用。

光源：Near UV (350-400nm) 推薦i-Line，也可用于E-beam，X-ray。

厚度范圍：5-100µm

Contact aligner exposure
10 µm features, 50 µm SU-8 3000 coating