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       比較快捷的光刻膠選擇方法是從后道工藝需求倒推對光刻膠的參數(shù)要求，從而選擇合適的光刻膠。

       例如，我們在光刻之后要進(jìn)行400um深度的深硅刻蝕工藝，而線寬的要求是50um。般光刻膠薄膠與硅材料的刻蝕速度都可以達(dá)到1：20的刻蝕選擇比，因此我們可以得到所需光刻膠應(yīng)在20um以上厚度，而分辨率在50um以下。

       此時我們可以查閱相應(yīng)的光刻膠列表，首先選擇光刻膠厚度范圍符合20um這一厚膠特征的，然后再在厚膠中，選擇分辨率優(yōu)于50um的光刻膠。我們一般會發(fā)現(xiàn)不止一種光刻膠適合這一工藝，因此我們就要詳細(xì)閱讀其具體的參考工藝參數(shù)和介紹。要確認(rèn)該光刻膠在描述中是否適合所需刻蝕工藝，目前的設(shè)備條件是否適合加工該種光刻膠，進(jìn)而要比較不同光刻膠對于本工藝的工藝窗口是否寬大，盡可能選擇工藝窗口寬，工藝難度低的光刻膠材料。