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       利用聚焦激光束直接在涂覆有光刻膠的襯底上描繪圖形的光刻技術(shù)。通常采用旋轉(zhuǎn)反射鏡陣列來實現(xiàn)大量激光束同時掃描的功能，因此對于分辨率要求不高的情況，可以實現(xiàn)高速的無掩模光刻，是掩模版的主要制造手段之一。其分辨率極限根據(jù)激光成像原理不同，由500nm到100nm以下。由于激光良好的調(diào)焦功能，激光直寫也是最常用的灰度光刻的技術(shù)手段。