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在科研領(lǐng)域，我們常見的光刻設(shè)備是接觸式光刻機，接觸式光刻機的主要特點是：

1>曝光時掩模板和襯底之間接觸或保持一個很小間隙，曝光方式分為真空接觸、硬接觸、軟接觸和接近式接觸；

2>采用光學(xué)顯微鏡進行對準；

3>掩模板圖形和光刻圖形為1:1比例；

4>可進行雙面對準；

5>光刻膠厚度沒有限制。