產(chǎn)品特性


紫外負(fù)性剝離光刻膠，是ift-off制造工藝的專用光刻膠。

黏附性好，耐高溫，通過(guò)曝光能量易于控制側(cè)壁的角度

高靈敏度：對(duì)小于380nm的波長(zhǎng)有很好的靈敏度，

光源i-Lin或g/h-Line，寬譜

膠厚：0.5-20μm

應(yīng)用：

無(wú)需使用增粘劑，采用單層lift-off工藝實(shí)現(xiàn)金屬和電介質(zhì)圖案的制作，適用于MEMS、封裝、生物芯片等工藝。